JB8226-3-1999
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ID： |
7B8328FED0684554BCB80640C2AAFB42 |
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文件大小(MB)： |
0.26 |
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页数： |
8 |
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文件格式： |
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日期： |
2008-1-15 |
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ICS 17.180;37.020,N30 JB,中华人民共和国机械行业标准,JB/T 8226.1 ~ 8—1999,光学零件镀膜,Coating for optical element,1999 - 08 - 06^ 2000-01-01 实施,国家机械工业局发布,目 录,JB/T8226.1- 1999光学零件镀膜 减反射膜 . 1,JB/T8226.2- 1999光学零件镀膜水解法镀双层减反射膜.8,JB/T8226.3- 1999光学零件镀膜 外反射膜 . 12,JB/T8226.4- 1999光学零件镀膜 内反射膜 . 17,JB/T8226.5- 1999光学零件镀膜 中性滤光膜 .. 21,JB/T8226.6- 1999光学零件镀膜 窄带干涉漉光膜 . 25,JB/T8226.7- 1999光学零件镀膜 分束膜 30,JB/T8226.8- 1999光学零件镀膜 截止滤光膜 .. 35,JB/T 8226.3—1999,前百,本标准是对JB/T 8226.3—95（GB 132。-88）《光学零件镀膜 外反射膜》的修订,修订时，对原标准作,了编辑性修改，主要技术内容没有变化,本标准自实施之日起，代替JB/T 8226.3—95,本标准由全国光学和光学仪器标准化技术委员会提出并归口C,本标准负责起草单位:上海光学仪器研究所C,JB/T 8226. J—1999,1范围,2引用标准,中华人民共和国机械行业标准,光学零件镀膜外反射膜,代替 JB/T 8226.3—95,optical eieinoit,reflecting coating,本标准规定了,本标准适用于,照使用,FWMLfeor,零件上膜层的,件上镀有保护,技术要求、试验方法、检验规则,膜的铝外反射膜，用其它材外反射膜也可参,藕过在本标准中标准的条文。本标准出版时,所示版本均为,电工,GB/T2828—T,GB/T 2829—1987 周期检,3分类,膜用于可见光谱区域,3.2镀铝加介质保护膜用,4技术要求,4.1镀膜后零件,4.1.1白光反射,计数抽样程,计数抽样程,下列标准所包,有效。所有标准都会被彳,GB/T 1185—1,GB/T 2423.1-;1989,抽,;使弼本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的四■,表面疵病,GB/T 2423.3T1993 电工,子产品基本型试验规程」试验A：低温试验方法,子产品基本环境试验规程i试验Ca：恒定湿热试验方,GB/T 2423.17-葭以电瓶子产品基本拆境试验现谑 试验Ka:盐冷,逐批,3.1镀铝加介质,用于连续批的,（适用于生产过程,学性能,3.1的白光反射比,4.1.2光谱反射,对光谱反射比,卜-可见光谱恒域,最小反射比R按表1规定c,表I,国家机械工业局1999 - 08 - 06批准2000 - 01-01 实施,13,JB/T 8226.3—1999,4.2 镀膜后零件的表面质量,4.2.1 外观,膜层不允许有损坏痕迹，如起皮、脱膜、裂纹和灰雾等,4.2.2 麻点,按抛光表面疵病的原级数J,其个数G允许增加30%o,4.2.3 擦痕,按抛光表面疵病的原级数J,其总长度允许增加30%o,4.2.4 针孔,膜层不允许有直径大于0.2mm的针孔存在;直径在0.0hnm~ 0.2mm的针孔按4.2.2麻点要求;直径,小于0.01mm针孔在任何lenf的面积上的数量不允许超过25个,4.3 膜层的抗磨强度,4.3.1 摩擦,按4.3.1.1或4.3.1.2要求，当零件的形状和尺寸不能进行摩擦试验时，则按4.3.2要求,4.3.1.1 膜层能经受膜层强度试验机的摩擦，摩擦500转不磨破,4.3.1.2 膜层能经受压力为4.9N的橡皮磨头的摩擦，摩擦50次不磨破,4.3.2 擦拭,膜层能经受蘸有酒精乙酸混合液的脱脂纱布擦拭，无擦痕,4.4 膜层和基底的附着力,膜层能承受玻璃胶带纸慢慢地粘拉，不允许有脱落现象,4.5 镀膜后零件对环境的适应性,4.5.1 恒定湿热,无包装情况下，在温度40P ± 2七，相对湿度90% ~ 95%的条件下保持24h,膜层不允许脱落，光学性,能仍符合4.1要求,4.5.2 盐雾,无包装情况下，在（重量）浓度为4.9% ~5.1%,pH值为6.5~7.2（35七）的盐雾中承受连续喷雾811,膜层不允许脱落，光学性能仍符合4.1要求,4.5.3 低温,无包装情况下，在-40七士 3七的低温中保持",膜层应无龟裂、脱落，光学性能仍符合4.1要求,5试验方法,5.1 镀膜后零件的光学性能（4.1）,5.1.1 白光反射比（4.1.1）,5.1.1.1 试验工具,以6V.30W白炽灯作光源、硒光电池作接收的反射比测量仪，准确度优于I%,5.1.1.2 试验程序,在膜面有效区域内任意位置测量反射比,测量时光线入射角取45,5.1.2 光谱反射比（4.1.2）,5.1.2.1 试验工具,反射比测量装置:准确度优于1.5%和标定好反射比的反射镜,5.1.2.2 试验程序,以标定的反射镜为基准，相对测定被检零件光谱反射比。当被检零件不宜测量时，用光学性能相同,（表面粗糙度和同次镀膜）的平面试验片代替，测量时光线入射角小于15%,5.2 镀膜后零件的表面质量（4.2）,14,___________________________________ JB/T 8226.3—1999,W.2.1 外观（4.2.1）,用60W.100W白炽灯照明，以黑色屏幕为背景，目测检验,5.2.2麻点、擦痕和针孔（4.2.2,4.2.3和4.2.4）,按CB/……
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