JB8226-4-1999
ID: |
2ECEB0B08142409F912DE79C59E81EA2 |
文件大小(MB): |
0.24 |
页数: |
7 |
文件格式: |
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日期: |
2008-1-15 |
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ICS 17.180;37.020,N30 JB,中华人民共和国机械行业标准,JB/T 8226.1 ~ 8—1999,光学零件镀膜,Coating for optical element,1999 - 08 - 06^ 2000-01-01 实施,国家机械工业局发布,目 录,JB/T8226.1- 1999光学零件镀膜 减反射膜 . 1,JB/T8226.2- 1999光学零件镀膜水解法镀双层减反射膜..8,JB/T8226.3- 1999光学零件镀膜 外反射膜 . 12,JB/T8226.4- 1999光学零件镀膜 内反射膜 . 17,JB/T8226.5- 1999光学零件镀膜 中性滤光膜 21,JB/T8226.6- 1999光学零件镀膜 窄带干涉漉光膜 ..25,JB/T8226.7- 1999光学零件镀膜 分束膜 30,JB/T8226.8- 1999光学零件镀膜 截止滤光膜 35,JB/T 8226.4—1999,一工一,前百,本标准是对 JB/ff 8226.4—赤(GB 1322—88),了编辑性修改,主要,■,本标准自实施2日起,本标准由全国光学和,本标准负责起,变化,J/T 8226.4—9兼,器标准化技术口 o,学仪器研究所,内反射膜》修订时,对原标准作,17,中华人民共和国机械行业标准,光学零件镀膜内反射膜,Coating for optical element Rear surface mirror coating,JB/T 8226.4—1999,代替 JB/T 8226.4—95,1范围,本标准规定了镀在光学玻璃零件上膜层的技术要求、试验方法、检验规则,本标准适用于在光学玻璃零件上镀有保护层的银或铝内反射膜,用其它材料镀制而成的内反射膜也,可参照使用,2引用标准,下列标准所包含的条文,通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时,所示版本均为,有效。所有标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性,GB/T 1185—1989光学零件表面疵病,GB/T 2423.1—1989电工电子产品基本环境试验规程 试验A:低温试验方法,GB/T 2423.3—1993电工电子产品基本环境试验规程 试验Ca:恒定湿热试验方法,GB/T 2423.17—1993电工电子产品基本环境试验规程 试验Ka:盐雾试验方法,GB/T 2828—1987逐批检查计数抽样程序及抽样表(适用于连续批的检查),GB/T 2829-1987周期检查计数抽样程序及抽样表(适用于生产过程稳定性的检查),3分类,3.1 真空镀银内反射膜,3.2 溶液沉淀法镀银内反射膜,3.3 真空镀铝内反射膜,4技术要求,4.1 镀膜后零件的光学性能,4.1.1 白光反射比,白光反射比R按表1规定,表1 %,条号反射比R不小于,3.1 90,3.2 88,3.3 85,国家机械工业局1999 - 08 - 06批准2000- 01- 01 实施,18,JB/T 8226.4—1999,最小反射比R不小于,4.1.2光谱反射比,对光谱反射比有技术要求的,在400nm.700nm波段上最小反射比R按表2规定,表2,起皮、脱膜、裂纹和灰雾等c,的原级釐J,其总长度允许增加30%,4.2镀膜后零件,4.2.1 外观,膜层不允许,4.2.2 麻点,按抛光表面,4.2.3 擦痕,按抛光表面,4.2.4 针孔,J,其个数C允许增加30%,膜层不允许律直彳,于0. 01mm针孔,4.3保护层质量1,4. 3.1保护层应j,4.3.2保护层对f,4. 3.3 3. 1 和 3 A,的针孔存在;直径0.01mm.0. 2mm的针孔按麻点要求;直径小,积上的数量不允许超过25个,件,机械损伤,■应有良好的,室温口枇氢饱和溶液,躇力;当用力片交叉切划时 成片剥落,应无变化,保层、拉裂和脱落,4.4镀膜后零件对环境的适应性,4.4.1 恒定湿热,无包装情况下,能仍符合4.1要加,4. 4. 2盐雾,无包装情况下,在(,膜层不允许脱落,4.4.3低温,40工土 2工,相对湿度90%.95%的条件下保允许脱落,光学性,度为4. 9% -,合4. 1要求,无包装情况下,在-40回3t的低温中保持2h,摸层应,5. 1%, pH 值为 6.5- 7. 2( 35 承受连续喷雾8h,无龟裂、脱落,光学性能仍符合4. 1要求,5试验方法,5.1白光反射比,用 6V, 30W,5.1.2试验程序,在膜面有效,1,上测量反射比,测量时光线,丒硒光电池接收反射比测量义,准确度优于1%0,人射角取45%,5.2光谱反射比(C,5.2.1 试验工具,反射比测量装置:准确度优于1.5%和标定好反射比的反射镜,5.2.2 试验程序,以标定的反射镜为基准,相对测定被检零件(厚度不大于1皿)在可见区的光谱反射比。当被检零件,19,_____________________________________ JB/T 8226.4—1999_____________________________________,不宜测量时,用光学性能相同(折射率、表面粗糙度、等效厚度和同次镀膜)的平面试验片代替,测量时光,线入射角小于15%,5.3 镀膜后零件的表面质量(4.2),5.3.1 4.2.1用60W~100W的白炽灯照明,以黑色屏幕为背景,在反射光下,目测检验,5.3.2 4.2.2~4.2.4按 GB/T1185 的检验方法°,5.4 保护层质量(4.3),5.4.1 4.3.1用60W~100W的白炽灯照明,以黑色屏幕……
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